上海半导体半自动切换管路改造
上海半导体半自动切换管路改造
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    商品详情
      上海半导体半自动切换管路改造
      上海半导体半自动切换管路改造
      以应用电力电子器件和计算机为代表的控制技术,对电能进行处理和变换,是其研究的主要内容。以来,电力半导体器件出现了几十种产品,但从理论、结构和工艺的创新、应用的广泛程度和持续的发展视角来看,功率二极管、晶闸管、可关断晶闸管(GO)和电场控制器件(GB1为代表堤几个发展平台,从每个平台又派生出若干相关的器件来。每一种器件的问世,都使得功率变换电路及其控制技术不断地革新。脉宽调制(IWM)电路、零电流(ZCS)零电压(ZVS等谐振软开关电路已成为功率变换电路的重要组成部分。
      学校的科研教学,制药行业的研发,化工行业的研究,还是用于医学或私人研究,其运转必须是安全可靠的。当代实验室离得各类耗气设备和各种分析仪如色谱仪和质谱仪都需要使用载气和燃料气,这些气体的控制系统对于实验人员和价格高昂的实验器材的安全都是至关重要的。它必须确保这些气体的稳定性和安全性。在现代化的实验室中,为了完成实验,需要用到多种分析仪器,如气相色谱仪,原子吸收,气一质联用仪,ICP等等,其中这些仪器需要用到高纯气体,传统的做法是采用独立钢瓶分散供气的模式,这种供气模式每台仪器设备单独配置气体钢瓶,分别满足每台仪器设备的使用,但随着近年来实验室投资的不断加大,仪器设备的迅速增加,用气量也逐年增加,传统的供气模式已经难以满足仪器设备增加的需求,同时分散供气模式带来的实验室布局混乱,钢瓶的频繁更换也对实验室的管理和维护造成了困难,为了解决以上两个方面的问题,就需要一套安全性高且能实现集中分配供气的系统完成从气源向仪器的供气,这就是实验室高纯气体管道系统的功能所在。实验室集中供气系统的特点:安全性、洁净度、稳定性、经济性、操作便捷性和美观性。
      4.系统工艺流程
      气路系统主要由气源、切换装置、管道系统、调压装置、用气点、监控及报警系统组成。对于一些易燃易爆气体,如氢气、乙炔等,可能在设计和施工过程中稍有差异,必须加入阻火器防火苗串入。
      气路系统常用器材:钢瓶(气体压缩机)、钢瓶固定架、钢瓶柜、钢瓶接头、
      金属软管、半自动切换装置、一级减压器、二级减压器、焊接三通、焊接大小头、
      卡套阀门、不锈钢管道(BA)、压力表、可燃有毒气体监测报警装置等等。
      5.系统设计和施工标准
      《工业金属管道工程施工及验收规范》
      GB50235-2010
      《现场设备、工业管道焊接工程施工及验收规范》
      GB50236-2011
      《氢气站设计规范》
      GB50177-2005
      《氢气使用安全技术规范》
      GB4962-2008
      《工业金属管道设计规范》
      GB50316-2000
      《乙炔站设计规范》
      GB50031-91
      《压缩空气站设计规范》GB50029-2014
      《建筑设计防火规范》
      GB50016-2014
      6.验收标准
      外观检查
      1.管道走线要横平竖直;管道均固定牢固
      2.管道外表面无明显破损。
      3.各个阀件无明显破损。

      实验室是用于完成实验、测试分析等各种实验工作的特殊环境。无论其用于

      学校的科研教学,

      制药行业的研发,

      化工行业的研究,

      还是用于医学或私人研究,

      其运转必须是安全可靠的。

      当代实验室离得各类耗气设备和各种分析仪如色谱仪

      和质谱仪都需要使用载气和燃料气,

      这些气体的控制系统对于实验人员和价格高

      安装实验室的气路要求
      (一)、需求
      1、供气参数:
      1、气体品种:共有八种气体, Ar(氩气) , N2 (氮气), L N2 (液氮) , He (氦气), 空压机一楼(Air) ,氢气(H2),乙炔(C2H2), O2(氧气) 分别在四、五楼都有独立气瓶室;
      液质室: N2、Air 共2个;气相室: H2、N2 、He 、Air 各四 共16个;
      气质室: N2、He 、Air、H2各两个共8个;ICP-MS室: Ar 、H2 、He 各一组共3个;
      光镨室:Air、Ar、C2H2 各四 共12个;气相、液相、理室:N2 共4个 ;
      荧光室: He 、Air 各一 共2个 ; 红外碳硫.氧氮分析室: O2 、N2、Air 两组各一 共6个;
      光镨室: C2H2、Air 各一 共2个;原子荧光室: Ar 共1个;
      ICP室: Ar 共1个;气相色镨室: H2 、N2、Air 两组各一 共6个;
      气质室:He 共1个;色镨处理室: N2 共2个;
      油品二室: O2 共1个
      2、压力要求:气源—— 高压瓶装气体,按标准充装;及杜瓦瓶(液氮)
      2.1使用压力—— 常规,按一次减压(≤0.8MPa),终端减压到仪器需要的使用压力两级调压考虑(需要使用的管道配终端的减压阀及开关阀门)
      3、管道敷设方式:埋地线槽敷设。
      上海半导体半自动切换管路改造
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      放置于室外的传感器端子箱有可能受到雷电接触放电;位于机房内的DCS机柜有可能受到大楼立柱泄流时的空气放电。信号线端口(含天馈线、数据线、控制线等)在控制系统中,为了实现信号或信息的传递总要有与外界连接的部位,如过程控制系统的信号交接端的总配线架、数据传输网的终端、微波设备到天线的馈线口等等,那么这些从外界接收信号或发射信号出去的接口都有可能受到雷电浪涌冲击。因为从楼外信号端口进来的浪涌往往通过长电缆,所以采用10/700μs波形,标准规定线到线间浪涌电压为0.5kV,线到地间浪涌电压为1kV。
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      4、特殊要求:
      4.1因氮气用量较大,要采用液体杜瓦瓶做主供气+两瓶高压钢瓶做备用供气,以保证不间断供气,防止由于供气的间断影响仪器的使用.
      4.2部分用气点较多的气源采用自动切换连续不间断供气的集中供气方式,终端配置开关阀和压力指示
      4.3小流量的气源采用单回路汇流排供气,终端配置开关阀和压力指示
      (二)、编制依据
      1、GB50235—2010《工业金属管道工程施工及验收规范》;
      2、GB50236—2011《现场设备、工业管道焊接工程施工及验收规范》;
      3、使用单位提出的工作条件(压力、流量及工作连续性等)。
      (三)、供气流程
      根据设计参数,共有八气体, Ar(氩气) , N2 (氮气), LN2 (液氮) He (氦气),空压机一楼(Air) ,氢气(H2),乙炔(C2H2), O2(氧气) 分别在四.五.六楼都有独立气瓶室,
      供气流程如下:气体从气瓶经高压软管进入高压汇流管,经次减压将压力降低至1.1Mpa.,通过洁净的不锈钢气体输送管道到达各实验室仪器台,
      通过开关阀门或终端减压阀控制气体输出,对于使用压力要求不同的仪器,在进入仪器前进行第二次调压,使压力符合仪器使用的工作条件。
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      一般的测定方法有以下几种:红外光度法:试样中的碳、硫经过富氧条件下的高温加热,氧化为二氧化碳、气体。该气体经处理后进入相应的吸收池,对相应的红外辐射进行吸收,由探测器转发为信号,经计算机处理输出结果。此方法具有准确、快速、灵敏度高的特点,高低碳硫含量均使用,采用此方法的红外碳硫分析仪,自动化程度较高,价格也比较高,适用于分析精度要求较高的场合。容量法:常用的有测碳为气体容量法和非水滴定法,测硫为碘量法、酸碱滴定法。
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