不锈钢亮面管详细工艺描述
不锈钢亮面管抛光工艺可以分为粗抛和出光两部分。现将该两部分工艺和方法总结如下：
粗抛
不锈钢工业管经历退火酸洗之后，表面为酸白，粗糙度一般都为ra6.4μm以上，进行粗抛的目的就是为了最后的出光，成为亮面粗下基础。
不锈钢亮面管粗抛工序分为三个部分：
1、打磨；2、半粗抛；3、粗抛。
一般来说，不锈钢亮面管进行粗抛的主要设备就是抛头，因为这个抛头的粗糙度决定了粗抛的顺序。
内孔11mm不锈钢管内抛光
下面我们来详细地描述整个不锈钢亮面管的粗抛程序：
详细说明如下：
1、 首先是检查外购来的不锈钢工业管，看看表面质量是不是有凹坑，薄厚不均，明显的深划痕，管子碰缺陷，导致经过多道粗抛之后还无法粗抛完成，所以，来料检验，成为粗抛工序最重要的一件工作，只有良好的来料，才能让本工序正常工作完成，交给下道工序优质的半成品。
如果发现有上述的缺陷，应退回进行来料返修，如果无缺陷，则进入本工序进行粗抛。

内孔11mm精密不锈钢管抛光
2、 打磨，用80目的抛光轮放在转动轴上对不锈钢工业管进行打磨，从而对表面为酸白的不锈钢工业管进行打磨，这样就能消除工业管上酸白的地方，逐渐体现出光亮表面。同时也让工业管生产过程中的表面小凹坑，明显的小凹痕，拉痕等等缺陷被消除。从而让打磨的不锈钢亮面管基本无大划痕，无碰伤，经过打磨后，不锈钢亮面管的表面粗糙度可以达到3.2μm。此工序中，操作工一定要保证打磨的表面必须完整，同时要避免还存留酸白。
内孔11mm不锈钢卫生管抛光
3、 半粗抛，用120目的抛光轮对前面经过打磨工序加工之后的不锈钢亮面管进行粗糙，半粗抛主要目的就是对打磨工序出现的打磨粗痕，还有未打磨到的细小缺陷，一些明显的凹坑进行修整，并对已经打磨的不锈钢亮面管进行进一步的粗抛，对打磨工序出现的印痕要反复抛削，从而使整个工序表面比较平滑，并无明显拉痕，凹坑。进行半粗抛光工序后，不锈钢亮面管表面粗糙度应能达到Ra1.6μm。（半粗抛工序不应产生新的划痕及碰伤，因为越后的工序，越不能对缺陷进行修整。）
4、 粗抛，抛光动作同上一模一样，用240目的抛光轮对已经半粗抛的不锈钢亮面管，粗抛共需就是对半粗抛的进行修整，同时尽量消除明显的抛光，这步工序也会对半粗抛的半成品不锈钢光亮面管进行一定的细化，从而保证不锈钢亮面管进一步光亮，工件表面粗糙度应能达到Ra0.8微米。

不锈钢管厂家:可是不锈钢管表面加工为什么容易出现波纹?

??产生上述波纹的原因，主要是由于磨床--钢管--砂轮系统的振动所引起的，或者说是由于砂轮相对于工件的振动而引起的。这种振动包括强迫振动和自激振动。引起振动的具体原因很多，其中主要的有：砂轮不平衡，安装前没有经过认真的平衡试验。因此，在磨削过程中产生强迫振动，引起不锈钢管表面出现直波形波纹。由于强迫振动的频率等于激振力的频率或者是它的倍数。因此，由于这一原因而产生的波纹较深，波距较宽，波的频率与砂轮的转速有关。不锈钢管加工时，鉴别的方法可以在工件的表面上涂一层薄薄的红油，并调整工作台的移动速度，使工作台移动距离在工件旋转一转时略等于砂轮宽度的2/3，然后移动砂轮架，使砂轮刚刚接触红油(不能有切入)，纵走刀一次后迅速退刀。这时，在工件的表面上可以观察出“多角形”，并量出波距(即多角形的边宽)，计算出波的频率(波频)。平面磨削时的鉴别方法也与此类似。

??砂轮传动电机不平衡，也会产生强迫振动而引起直波形波纹(磨外圆时)或横波纹(磨平面时)，其情况与砂轮不平衡相类似。同样原因，砂轮传动皮带厚薄、长短不一，以及磨床液压传动机构中由于油泵工作所造成的输油管中液体的脉动，也可能出现类似的强迫振动。不过由此而引起的振动情况，要稍稍轻微一些。不锈钢管表面加工时，钢管与机床系统在磨削过程中的弹性变形，会增加磨削过程中自激振动的强度，使钢管加工表面出现直波形波纹。这时，波纹较浅、较密，波频一般在300个/秒左右，与砂轮的转速不一致。钢管与机床系统的刚性愈差，砂轮对工件的摩擦力愈大，自激振动的振幅就愈大，波纹也就愈深。
不锈钢管厂家:不锈钢钢管渗碳氮化加工后为什么会出现变形现象

??不锈钢钢管渗碳的方法有固体渗碳、液体渗碳、气体渗碳，还有碳氮共渗等不同类型，需要与每种渗碳源相适应的设备和热处理操作方法。渗碳是通过从不锈钢管表面的气氛中吸附活性碳原子，这些碳原子再向钢的内部扩散来进行的。影响渗碳的主要因素是渗碳气氛的碳势，渗碳温度以及渗碳时间。用上式估算的是总渗碳层深度。另外，上式设渗碳表面碳浓度为各渗碳温度下奥氏体的饱和碳浓度，当渗碳表面的碳浓度低于该温度下奥氏体的饱和浓度时，由上式求出的渗碳深度值就偏小。不锈钢钢管渗碳产生的缺陷，与上述主要因素以及渗碳件的钢种、成分、渗碳后的淬火方法等有关。

??从不锈钢钢管材料组织成分平衡图可以看出，铁素体(α相)只能固溶0.1%以下的氮，因此，钢在氨气中加热时就形成铁的氮化物。在氮化表面形成的这些氮化物饱和层，作显微组织观察时，由于它不受所用侵蚀试剂腐蚀，故呈现为白亮层。白亮层容易剥落，所以，氮化后必须用精加工除去，因此可以把白亮层看做伴随氮化产生的一种缺陷。用氨气进行氮化，通过分解产生的原子氮被钢吸附和扩散，再和存在于钢内的Al、Cr等结合形成细小的化合物，在铁素体晶粒内引起很大畸变而使之硬化。未参与氮化的氮变成惰性分子态氮从炉中排出。

??图中所示是混合气氛与不同温度下处于平衡的Fe-N相的关系。所以，氨的分解气和氨气的混合气体，即NH3+N2+H2的氮化气氛，可以获得具有与氨分压或者说是氨的分解率相对应的氮化铁表面的氮化层。图中所示是不锈钢钢管在500℃与550℃氮化24小时的情况下，氨的分解率、氮化量以及表面生成相间的关系。从以上结果可以看出，不在生成白亮层的氮化条件下，就不能获得充分的氮化效果。二段氮化法在氮化后期用高分解率的气氛，仅能促进氮在钢中的扩散，试图减轻白亮层。但需要注意的是，与此同时氮化铁容易从晶界上成网状析出，而成为发生剥落的原因。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、对环境无污染等作用。

??制作步骤依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

??配方中的MW-6抛光剂是一种复合抛光剂，其成分含有硝酸、盐酸、苯甲酸、冰乙酸和其他助剂，只需要按配方量150～270mL/L加水溶解即可。配成的抛光液消耗量为6～8平方米，抛光面积/L抛光液。使用配方抛光液的工艺流程如下：除尽油的零件→热水预热 (60～70℃)→MW-6抛光→热水洗(60～70℃)→热水洗(50～60℃) →中和(2%氨水)→冷水洗→超声波清洗(30～40℃)→乙醇(95%)脱水→烘干→包装。