PECVD开启式真空管式炉
PECVD开启式真空管式炉
产品价格:¥1(人民币)
  • 规格:PECVDΦ100*L1200mm
  • 发货地:苏州昆山开发区六时泾路28号
  • 品牌:
  • 最小起订量:1台
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    商品详情
      PECVD

       

      设备介绍: 本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

      要特点:

          1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

          2PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

          3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

          4PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

          5、广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

      开启式真空管式炉技术参数

      石英管尺寸

      Φ100*L1200mm

      加热元件

      电阻丝

      测温元件

      N型热电偶

      加热区/恒温区

      440mm/200mm

      工作温度

      ≤1100℃

      控温模式

      PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制

      控温精度

      ±1℃

      电功率

      AC220V/50HZ/3KW

      质量供气系统

      标准量程

      50-500ml/min

      压力表测量范围

      -0.1Mpa~0.15Mpa

      极限压力

      3MPa

      针阀

      316不锈钢

      电功率

      AC220V/50HZ/20W

      响应时间

      气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

      重复精度

      ±0.2%

      真空系统参数

      工作电电压

      220V±10%  50~60HZ

      功率

      400W

      极限真空

      4X10-1Pa

      /气口口径

      KF25

      射频电源

      信号频率

      13.56 MHz±0.005%

      功率输出范围

      5W-500W

      供电电压

      单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ

      整机效率

      >=70%

    在线询盘/留言
  • 0571-87774297