等离子刻蚀机PlasmaStar200RIE反应离子蚀刻机
等离子刻蚀机PlasmaStar200RIE反应离子蚀刻机
产品价格:¥100.00(人民币)
  • 规格:完善
  • 发货地:上海上海
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  • 最小起订量:1
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    企业证件:通过认证

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    商品详情
      产品参数
      品牌美国PlasmaStar
      是否支持加工定制
      规格200mm
      外形尺寸200mm
      显示方式7英寸大液晶触摸屏
      毛重150kg
      传感器类型电感式
      发货地武汉
      产地美国(原装进口)
      起订量1套起批
      可售卖地全国
      型号PlasmaStar200/200RIE

      一、反应离子刻蚀机PlasmaStar 100仪器介绍

      PlasmaSTAR?系列等离子处理系统适合处理所有的材料,拥有多种腔室和电极配置,可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小,用于各种等离子工艺的模块化腔室和电极配置。此外,触摸屏计算机控制,多级程序控制和组件控制,操作简单。PlasmaSTAR?模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。 腔室材料是硬质阳极氧化铝, 有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于最小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。


      1、腔体尺寸:直径≥200mm,深度≥280mm;

      2、腔体材质:硬质阳极氧化铝矩形腔体;

      3、处理腔背面材质:铝;

      4、处理腔门:要求全自动腔门;

      5、两路工艺气体,≥2路质量流量控制器控制气体流量,气体输入腔室带匀流设计;

      6、射频功率:0~600W连续可调,13.56MHz,自动匹配,自然风冷;

      7、配备RIE平面水冷平板电极;

      8、7英寸及以上显示器、触摸屏、图形用户界面;?

      9、程序控制:触摸屏电脑控制,无线程序存储;

      10、Windows操作系统,兼容Windows office软件,USB接口,可进行外部电脑远程控制的功能;

      11、状态和出错信息提示,过程数据和出错信息存储,可选择自动和手动操作模式,过程数据可以导出,工艺参数以图形方式呈现,可实时监控,自动实现泄露检测;

      12、配套紧急急停按钮(EMO),配套电路断路器,机械联锁(门传感器)和真空联锁(压力开关),通过软件可进行远程的真空联锁;

      13、典型的光刻胶刻蚀速率:80nm/min;

      14、典型工艺均匀性:≥±10;



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