PDC-32G-2Harrick 基本型等离子清洗机的详细资料
  等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。
  基本型等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
  基本型等离子清洗机应用：
  1. 高分子材料表面修饰。
  2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
  3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
  4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
  5. 清洗半导体元件、印刷线路板。
  6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
  7. 清洗沉积凝胶的基片。
  8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
  9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
  10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的
  粘和力。
  基本型等离子清洗机
  http://www.first-nano.com/SonList-1417835.html
  http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417835.html